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Abstract brevetto
Un processo in silico per identificare il design di un sensore plasmonico nanostrutturato comprende le seguenti fasi operative: selezione di un analita; caratterizzazione dell’analita con tecniche computazionali; selezione di almeno un substrato nanostrutturato bi o tridimensionale con caratteristiche plasmoniche; caratterizzazione di ciascun substrato con tecniche computazionali; esecuzione di una mappatura del potenziale di interazione tra l’analita e ciascun substrato in modo da identificare, per ciascuna regione e/o ciascun atomo di ciascun substrato, un valore di interazione con l’analita; calcolare il segnale spettrale dell’analita adsorbito su ciascun substrato per almeno una regione e/o un atomo di ciascun substrato; valutare analiticamente un fattore di potenziamento di ciascun segnale spettrale calcolato; e confrontare ciascun fattore di potenziamento con un corrispondente valore di soglia minimo predefinito, in modo da valutare se il sensore plasmonico nanostrutturato associato è configurato per eseguire il rilevamento dell’analita con sensibilità a singola molecola.